发明名称 一种用于承载可转动的溅射靶材的扁平端块
摘要 本发明披露了一种用于管状磁控溅射设备的端块。这种端块将运动,冷却剂(5)以及电流可转动地传递至靶材上,同时,保持真空的完整性以及封闭的冷却剂回路。该端块包括驱动装置,旋转式电接触装置,支承装置,多个旋转式冷却剂密封装置,多个真空密封装置。本发明的端块沿靶材占据最小的轴向长度,从而允许在如显示器涂镀器这样的现存设备(10)中节省空间。通过径向彼此相对安装至少两个装置,能够减小轴向长度。
申请公布号 CN101044257A 申请公布日期 2007.09.26
申请号 CN200580035605.3 申请日期 2005.10.11
申请人 贝卡尔特先进涂层公司 发明人 K·德拉尔特;W·德博斯谢尔;J·德博埃韦尔;G·拉佩勒
分类号 C23C14/34(2006.01);H01J37/34(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 蒋旭荣
主权项 1.一种端块,其用于在易排空的溅射设备中,绕转动轴线可转动地承载靶材,所述端块包括由至少两个以下装置构成的子设备:·驱动装置,该驱动装置覆盖所述轴线上的驱动装置区域,所述驱动装置区域被限定为所述驱动装置在所述轴线上的垂直投影部分;·可转动的电接触装置,该电接触装置覆盖所述轴线上的接触装置区域,所述接触装置的区域被限定为所述接触装置在所述轴线上的垂直投影部分;·多个支承装置,所述支承装置覆盖所述轴线上的支承装置区域,所述支承装置区域被限定为所述支承装置在所述轴线上的垂直投影部分;·多个可转动的冷却剂密封装置,所述冷却剂密封装置覆盖所述轴线上的冷却剂密封装置区域,所述冷却剂密封装置区域被限定为所述冷却剂密封装置在轴线上的垂直投影部分;·多个可转动的真空密封装置,所述真空密封装置覆盖所述轴线上的真空密封装置区域,所述真空密封装置区域被限定为所述真空密封装置在轴线上的垂直投影部分;其特征在于:所述装置的子设备中的至少两个装置彼此沿径向布置,以便对应于所述至少两个装置的至少两个区域在所述轴线上彼此重叠。
地址 比利时丹泽