发明名称 |
光信息记录介质及其制造方法 |
摘要 |
提供一种光信息记录介质的制造方法,其特征在于其中具有用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层制成层叠体的层叠体制造工序,以及具有以下任一粘合工序:一边使表面膜的内周面保持在基板的内周面的外侧,一边将表面膜与所述的层叠体粘合的粘合工序,根据基板的外周面调节粘合的位置,将表面膜与层叠体粘合的粘合工序,将表面膜放置在平台上,在表面膜上粘合层叠体的粘合工序,以及将设置剥离膜的表面膜粘合在层叠体上后,从表面膜向外侧露出的剥离膜,从露出部分将剥离膜剥离的粘合工序。另外,本发明还提供一种用上述任何方法制造的光信息记录介质。 |
申请公布号 |
CN100339901C |
申请公布日期 |
2007.09.26 |
申请号 |
CN03110241.7 |
申请日期 |
2003.04.07 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
宇佐美由久 |
分类号 |
G11B7/26(2006.01);G11B7/24(2006.01) |
主分类号 |
G11B7/26(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李香兰 |
主权项 |
1.一种光信息记录介质的制造方法,其特征在于其中包括在形成道间距200~400nm、沟槽深度10~150nm纹道的基板上,用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层,制作层叠体的层叠体制作工序,以及一边使表面膜的内周面保持在所述的基板的内周面的外侧,一边将所述的表面膜与所述的层叠体粘合的粘合工序,其中将所述的表面膜和所述的层叠体粘合时的温度处于18℃以上,湿度处于35%RH以上。 |
地址 |
日本东京都 |