薄膜电晶体阵列基板及其微影制造方法与光罩设计结构

摘要

本发明是关于一种薄膜电晶体阵列基板及其微影制造方法与光罩设计结构。该微影制造方法是首先将光罩设置在一基板上方，且基板上已形成有一光阻层。然后，将光罩的显示元件区遮蔽住，以对光阻层进行非显示元件区的曝光制程。继之，将光罩的非显示元件区遮蔽住，对光阻层重复进行至少一次显示元件区的曝光制程。最后，进行一显影制程，以图案化光阻层。其中对应于显示元件区处的光阻层中可形成多个象素图案，而对应于非显示元件区处的光阻层中可形成多个周边线路图案以及多个拟象素图案，且每一个拟象素图案与每一个象素图案对应接合。本发明可降低曝光制程时所需曝光次数，减少因曝光接合所产生的痕迹，有效减少因多次曝光制程间若接合不佳而导致辉度不均匀问题。

主权项

1、一种薄膜电晶体阵列基板的微影制造方法，其特征在于其包括以下步骤：提供一光罩，该光罩具有二非显示元件区以及一显示元件区，其中该些非显示元件区位于该显示元件区的相对两侧，且该显示元件区与各该非显示元件区之间相隔一预定距离，且该些非显示元件区中邻近该显示元件区之处是设计有复数个拟象素图案；将该光罩设置在一基板上方，且该基板上已形成有一光阻层；将该光罩的该显示元件区遮蔽住，对该光阻层进行非显示元件区的曝光制程；将该光罩的该些非显示元件区遮蔽住，对该光阻层重复进行至少一次显示元件区的曝光制程；以及进行一显影制程，以图案化该光阻层，其中对应于该显示元件区处的该光阻层中是形成有复数个象素图案，对应于该些非显示元件区之处的该光阻层中是形成有复数个周边线路图案以及复数个拟象素图案，且该些拟象素图案与该些象素图案接合。