| 发明名称 | 母盘衬底和制作高密度浮雕结构的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于光学记录的母盘衬底，包括：衬底层(26)、位于衬底层(26)上方的第一记录层(12)和第二记录层(16)以及在第一记录层(12)和第二记录层(16)之间的中间层(14)，记录层(12、16)包括相变材料，由于在记录层上投射了光所引起的相变从而可以改变与该材料的化学剂有关的特性。本发明还涉及一种制作高密度浮雕结构的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101044565A | 申请公布日期 | 2007.09.26 |
| 申请号 | CN200580035779.X | 申请日期 | 2005.10.12 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | E·R·迈因德斯;R·A·洛克 |
| 分类号 | G11B7/26(2006.01);G11B7/243(2006.01) | 主分类号 | G11B7/26(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张雪梅;刘红 |
| 主权项 | 1.一种用于光记录的母盘衬底，包括衬底层(26)，位于衬底层(26)上方的第一记录层(12)和第二记录层(16)，以及位于第一记录层(12)和第二记录层(16)之间的中间层(14)，该记录层(12、16)包括相变材料，由于在记录层上投射了光所引起的相变从而可以改变与该材料的化学剂有关的特性。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||