发明名称 |
超大型等离子真空镀膜装置 |
摘要 |
本实用新型是关于一种超大型等离子真空镀膜装置,涉及真空离子镀膜设备。本实用新型是为解决对大型工件的等离子真空镀膜作业,而提出一种超大型等离子真空镀膜装置,其特征在于由第一、第二真空室、镀膜室、同步传动机构、行走架、采集器、偏压器件、加热器组成,镀膜室的两侧分别接置第一、第二真空室构成连通的一室,该室内设有行走架,行走架装接同步传动机构,镀膜室两端设有活动源座和离子发射源。本实用新型不仅可完成对大或超大型工件的镀膜作业,且由于采用了双向离子发射源的镀膜室,致使镀件可获得黑色、锆金色、玫瑰金色和咖啡色等丰富的色彩以及匀致性好、附着力强的镀层。本实用新型具有结构合理、效率高和节约工时的特点。 |
申请公布号 |
CN200952034Y |
申请公布日期 |
2007.09.26 |
申请号 |
CN200620129783.4 |
申请日期 |
2006.09.14 |
申请人 |
北京市普镭挺真空镀膜设备有限公司 |
发明人 |
王百江;杨宁合 |
分类号 |
C23C16/513(2006.01);C23C16/52(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/513(2006.01) |
代理机构 |
中国商标专利事务所有限公司 |
代理人 |
万学堂 |
主权项 |
1、一种超大型等离子真空镀膜装置,其特征在于由第一、第二真空室、镀膜室、同步传动机构、行走架、采集器、偏压器件、加热器组成,镀膜室的两侧分别接置第一和第二真空室构成连通的一室,该室内设有行走架,行走架装接有同步传动机构,镀膜室两端设有活动源座和离子发射源;镀膜室还设有进气管和进气口,第一、第二真空室分别设有出气口。 |
地址 |
101500北京市密云县西门外大街30号 |