| 摘要 |
本发明揭示一种电浆清洁方法，其对于在溅镀沉积之前从一具有高碳含量之多孔性低k介电质移除光阻与氧化物残余物系特别有用。一远端电浆源(52)产生一主要为氢自由基H*之电浆。氢压力可以被维持非常低，例如30 milliTorr。选择性地，氦可以被添加至处理气体，而使氢分压被保持在低于150 milliTorr。在400 milliTorr之氢与氦中，70％氦可以获得良好结果。较佳地，一离子过滤件(例如磁性过滤件(62, 64)从远端电浆源之输出移除氢与其他离子，并且一来自远端电浆源之供应管(54)系包括一可移除的介电质衬里(66)，供应管(54)与介电质喷洒头(40)及岐管衬里(58)形成组合。 |
