发明名称 一种流体化床预镀反应器及预镀方法
摘要 本发明涉及一种流体化床预镀反应器,其包括一反应室、一阳极、一阴极、及一多孔分布挡板。该反应室底部开设有一镀液进口,用于通入预镀液,该反应室上部侧壁开设有一溢流出口,用于预镀液溢流。该阳极、阴极及多孔分布挡板设置于该镀液进口与溢流出口之间的反应室中,该阳极紧附于该反应室内壁上。本发明还涉及一种流体化床预镀方法。该流体化床预镀反应器及预镀方法突破了传统预镀槽设计与使用方法之限制,使得奈米与微米级微粒亦可以简单实现预镀。
申请公布号 TW200734483 申请公布日期 2007.09.16
申请号 TW095107189 申请日期 2006.03.03
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 发明人 萧博元;黄全德
分类号 C23C18/54(2006.01) 主分类号 C23C18/54(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
地址 台北县土城市自由街2号