发明名称 非挥发性记忆体的抹除方法
摘要 一种非挥发性记忆体之抹除方法,此记忆体具备有第一导电型基底、设置于第一导电型基底中的第二导电型井区、设置于第二导电型井区上的第一导电型井区、及设置于第一导电型基底上的记忆胞,此记忆胞包含电荷陷入层与闸极。此抹除方法包括:于闸极施加第一电压,且于第一导电型基底施加第二电压,使第二导电型井区为浮置,其中第二电压足以产生基底热电洞效应,第一电压可使电洞注入电荷陷入层。
申请公布号 TW200735110 申请公布日期 2007.09.16
申请号 TW095107380 申请日期 2006.03.06
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 郭兆玮;赵志明;黄汉屏
分类号 G11C16/14(2006.01) 主分类号 G11C16/14(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号