发明名称 | 非挥发性记忆体的抹除方法 | ||
摘要 | 一种非挥发性记忆体之抹除方法,此记忆体具备有第一导电型基底、设置于第一导电型基底中的第二导电型井区、设置于第二导电型井区上的第一导电型井区、及设置于第一导电型基底上的记忆胞,此记忆胞包含电荷陷入层与闸极。此抹除方法包括:于闸极施加第一电压,且于第一导电型基底施加第二电压,使第二导电型井区为浮置,其中第二电压足以产生基底热电洞效应,第一电压可使电洞注入电荷陷入层。 | ||
申请公布号 | TW200735110 | 申请公布日期 | 2007.09.16 |
申请号 | TW095107380 | 申请日期 | 2006.03.06 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 郭兆玮;赵志明;黄汉屏 |
分类号 | G11C16/14(2006.01) | 主分类号 | G11C16/14(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号 |