碎片装置、系统及方法

摘要

一种在浸入式微影制造技术中用于减少半导体装置晶圆污染的装置、系统与方法。一较佳的实施例包括提供该装置结构完整性的一支撑环，以及形成在该支撑环一侧上的一平面环。该平面环具有复数穿过该平面环所形成的开口。该装置位在一晶圆载物台的沟槽中，而该复数开口允许过剩浸没流体流通过并进入该沟槽，并在该沟槽处移除该流体。然而，该装置可避免因为该晶圆载物台的移动而造成该沟槽之中的过剩浸没流体与污染物回到该晶圆载物台之上，以避免污染一半导体晶圆的潜在可能性。