| 发明名称 |
利用多曝光及多曝光样式之微影装置与器件制造方法 |
| 摘要 |
本发明揭示一种微影装置与方法，其中，举例来说，会利用一非常低解析度的曝光来修整一反覆图案之一非常高解析度的曝光。据此，便可于提供一高解析度图案以及让要形成的图案具有更多弹性之间达成妥协的结果。 |
| 申请公布号 |
TW200734830 |
申请公布日期 |
2007.09.16 |
| 申请号 |
TW095145559 |
申请日期 |
2006.12.07 |
| 申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
卡尔斯 柴格 托斯特;乔汉那 约克伯 马修 贝索曼;MATHEUS;阿诺 珍 布莱克;詹姆士 佘悟 葛林区 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F7/22(2006.01);G06F17/50(2006.01);H01L21/027(2006.01);G02F1/13(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
|
| 地址 |
荷兰 |
