| 发明名称 |
光阻用聚合体、光阻组成物、形成有图案的基板的制造方法、聚合性单体以及聚合性单体的制造方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种高灵敏度、高解析度、光线透过率高、显影时的缺陷少、具有能够耐受光阻膜薄膜化的耐乾蚀刻性，在用于浸液用光阻组成物时具有比浸渍液高的折射率，与其他单体的共聚合性优异的光阻用聚合体。该光阻用聚合体包括下述式(1-1)表示的具有骨架的构成单元(A)。(R10表示氢原子或甲基，G表示-C(=O)-O-、-O-或-O-C(=O)-中的任一种。L1以及L2分别独立表示单键或碳原子数为1~20的直链、分支链或环状的2价烃基，Y表示-C(=O)-OH、-OH、-C(=O)-OR13或-OR13。) |
| 申请公布号 |
TW200734817 |
申请公布日期 |
2007.09.16 |
| 申请号 |
TW095139145 |
申请日期 |
2006.10.24 |
| 申请人 |
三菱丽阳股份有限公司 |
发明人 |
百 阳;中村雅;加藤修 |
| 分类号 |
G03F7/027(2006.01);C08F20/30(2006.01);C08F16/26(2006.01);C08F18/04(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/027(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文;萧锡清 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
