| 发明名称 |
具有多层光阻层之相位移光罩基底及相位移光罩之形成方法 |
| 摘要 |
一相位移光罩基底以及利用相位移光罩基底形成相位移光罩之方法，其中相位移光罩基底包含光透层、置顶抗反射层、位于抗反射层上之堆叠感光层。堆叠感光层具有至少两层感光层，其中叠于上方之感光层较叠于下方之感光层对辐射能具有较低之感光度。 |
| 申请公布号 |
TW200734812 |
申请公布日期 |
2007.09.16 |
| 申请号 |
TW096106158 |
申请日期 |
2007.02.16 |
| 申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
李信昌;陈嘉仁;谢弘璋;叶励志 |
| 分类号 |
G03F1/08(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/306(2006.01) |
主分类号 |
G03F1/08(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
蔡坤财;李世章 |
| 主权项 |
|
| 地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
