发明名称 垂直式环绕闸极结构的半导体元件
摘要 本发明提出一种垂直式环绕闸极结构之半导体元件,此半导体元件包括:柱状基底、领氧化层、金属层、汲极区、接地线、源极区、位元线、字元线、闸极以及闸介电层。其中,接地线系配置于柱状基底之一开口中,并覆盖领氧化层与金属层,且电性连接于柱状基底。汲极区系配置于柱状基底顶部及开口上部中。闸极系配置于字元线、位元线与柱状基底之间。闸介电层系配置于闸极、源极区、汲极区、位元线与柱状基底之间。
申请公布号 TW200735280 申请公布日期 2007.09.16
申请号 TW095108075 申请日期 2006.03.10
申请人 茂德科技股份有限公司 发明人 吴孝哲
分类号 H01L21/8239(2006.01);H01L27/105(2006.01);H01L21/8242(2006.01);H01L27/108(2006.01) 主分类号 H01L21/8239(2006.01)
代理机构 代理人 王宗梅
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路19号3楼