| 摘要 |
本发明系关于一种在基板上电镀或电解抛光金属之方法，其中将选自N+R1R2R3R4 X-或N+R5R6R7R8 Y-之群的离子液体用作电解质，且将添加至该离子液体之金属盐用作金属源，或将一金属阳极用作该金属源，其中R1至R8中之任一者独立地代表氢、烷基、环烷基、芳基或芳烷基，该等基团可经选自OH、Cl、Br、F、I、苯基、NH2、CN、NO2、COOR9、CHO、COR9或OR9之基团取代，且R5至R8中之至少一者为脂肪烷基链，且R5至R8中之一或多者可为(聚)氧基伸烷基，其中该伸烷基为C1至C4伸烷基且氧基伸烷基单元之总数可为1至50个氧基伸烷基单元，且R1至R8中之至少一者为C1至C4烷基链，R9为烷基或环烷基，X-为具有N-醯基磺醯基醯亚胺阴离子(-CO-N--SO2-)官能性之阴离子，Y-为与N+R5R6R7R8铵阳离子相容之阴离子，诸如卤化物阴离子、羧酸盐阴离子、硫酸根(有机及无机硫酸根两者)、磺酸根、碳酸根、硝酸根、亚硝酸根、硫氰酸根、氢氧根或磺醯基醯亚胺阴离子。 |
