微影装置及器件制造方法

摘要

本发明揭示一种微影装置，其包括一量测系统以量测一基板支撑件相对于一基准框架之位置及/或运动。该量测系统包括：一安装至该基板支撑件及该基准框架中之一者的目标；一安装至该基板支撑件及该基准框架之另一者的辐射源；及一经构造以侦测一自该目标传播之辐射图案的感测器，该辐射图案指示该基板支撑件之位置或运动。该基板支撑件包括一个或多个气体出口，该等气体出口经构造以提供一囊封该辐射光束传播至该目标所经由之空间体积之气体流。