COMPOSICIONES DE RECUBRIMIENTO QUE TIENEN RESISTENCIA AL RAYADO MEJORADA, SUSTRATOS RECUBIERTOS Y METODOS RELACIONADOS CON LOS MISMOS.

摘要

Una composición formada a partir de componentes que comprende: (a) al menos un polisiloxano que comprende la siguiente estructura (II) o (III): en la que: m tiene un valor de al menos 1; m'' varía de 0 a 75; n varía de 0 a 75; n'' varía de 0 a 75; cada R, que puede ser igual o diferente, se selecciona entre H, OH. grupos hidrocarburo monovalentes, grupos siloxano monovalentes, y mezclas de cualquiera de los anteriores; y -Ra comprende la siguiente estructura (IV): (IV) -R3-X donde -R3 se selecciona entre un grupo alquileno, un grupo oxialquileno, un grupo alquilenarilo, un grupo alquenileno, un grupo alquenilenarilo; y X representa un grupo que comprende al menos dos grupos hidroxilo; o X representa un grupo que comprende al menos un grupo seleccionado entre H, un grupo orgánico sustituido por monohidroxi, y un grupo que tiene la siguiente estructura (V): (V) -R4(CH2-OH)p donde el grupo sustituyente R4 representa cuando p es 2 y el grupo sustituyente R3 representa un grupo alquilo C1 a C4, oel grupo sustituyente R4 representa cuando p es 3 donde al menos una porción de X representa un grupo que contiene un grupo que tiene la estructura (V); y (b) al menos un reactivo que comprende al menos un grupo funcional que es reactivo con al menos un grupo funcional del al menos un polisiloxano; y (c) una pluralidad de partículas seleccionadas entre partículas inorgánicas, y mezclas de las mismas, donde las partículas tienen un tamaño de partícula medio que varía de 1 a menos de 1000 nanómetros antes de la incorporación a la composición; donde cada componente es diferente.