发明名称 Verfahren zum Herstellen einer Schicht aus einem dotierten Halbleitermaterial und Vorrichtung
摘要
申请公布号 DE112005003054(A5) 申请公布日期 2007.09.13
申请号 DE200511003054T 申请日期 2005.10.04
申请人 NOVALED GMBH 发明人 WERNER, ANSGAR;BIRNSTOCK, JAN;MURANO, SVEN
分类号 H01L51/52 主分类号 H01L51/52
代理机构 代理人
主权项
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