| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, zur Abbildung einer in einer Objektebene positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene positionierbare lichtempfindliche Schicht, wobei das Projektionsobjektiv (108) ein bildebenenseitig letztes optisches Element (113) mit einer Lichteintrittsfläche und einer Lichtaustrittsfläche aufweist und für einen Immersionsbetrieb ausgelegt ist, in welchem in einem Bereich zwischen der Lichtaustrittsfläche und der Bildebene (IP) eine Immersionsflussigkeit (114) angeordnet ist, und wobei wenigstens eine zwischen der Lichteintrittsfläche des bildebenenseitig letzten optischen Elements (113) und der Immersionsflussigkeit (114) befindliche Grenzfläche wenigstens bereichsweise eine Mikrostrukturierung (117, 217, 313a, 413a, 515a, 615a) aufweist.</p> |
