| 摘要 |
<p>Es wird ein neues Verfahren zur Herstellung mindestens einer elektrisch leitenden Struktur beschrieben, das folgende Schritte umfasst: - Bereitstellen eines Materialstreifens, welcher mindestens eine elektrisch leitende Schicht mit einer Schichtdicke D umfasst, und - Stanzen der mindestens einen elektrisch leitenden Schicht, wobei in der mindestens einen elektrisch leitenden Schicht senkrecht zu einer von der elektrisch leitenden Schicht aufgespannten Ebene mindestens ein Spalt mit einer Höhe H ausgebildet wird, dessen Verlauf in der Ebene die Kontur der mindestens einen elektrisch leitenden Struktur bestimmt, wobei - der mindestens eine Spalt derart ausgebildet wird, dass die Höhe H des Spalts geringer oder gleich der Schichtdicke D der mindestens einen elektrisch leitenden Schicht ist, und dass - anschließend die mindestens eine elektrisch leitende Schicht geätzt wird, derart dass die mindestens eine elektrisch leitende Schicht im Bereich des mindestens einen Spalts durchtrennt wird.</p> |
