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发明名称 VERFAHREN UND SYSTEM ZUR REINIGUNG EINES WAFERS NACH CHEMISCH- MECHANISCHEM POLIEREN ODER PLASMABEHANDLUNG
摘要
申请公布号 DE60031852(T2) 申请公布日期 2007.09.13
申请号 DE2000631852T 申请日期 2000.06.23
申请人 LAM RESEARCH CORP. 发明人 FARBER, J.;SVIRCHEVSKI, S.
分类号 H01L21/00;H01L21/304 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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