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Die Polierzusammensetzung enthält Polyoxyethylensorbitanmonofettsäureester, Siliziumdioxid, wasserlösliche Zellulose, eine Alkaliverbindung und Wasser. Der Gehalt an Polyoxyethylensorbitanmonofettsäureester in der Polierzusammensetzung ist kleiner als 0,0025 Massen-%. Die Polierzusammensetzung ist zum finalen Polieren von Siliziumwafern geeignet.
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