发明名称 硅片表面金属电极制作方法及开槽器
摘要 硅片表面金属电极制作方法,把所要制作电极的硅片固定在印刷台面上,先在硅片表面上根据需要的深度划开硅片表面自然氧化层形成沟槽,再使印刷电极浆料填埋入沟槽中,最后烧结硅片使印刷电极浆料与硅表面形成牢固的微合金,从而形成良好欧姆接触的表面电极。专用开槽器包括内设浆料通道的握柄,握柄下面前部前后设置锥形出浆管口和劈刀,出浆管口与开槽器浆料通道连通。出浆管用不锈钢亚毫米细管制成。利用本发明制作硅片表面金属电极,工艺简单、材料消耗少、生产效率高。
申请公布号 CN101034724A 申请公布日期 2007.09.12
申请号 CN200710089300.1 申请日期 2007.03.20
申请人 高文秀 发明人 高文秀
分类号 H01L31/18(2006.01);H01L21/28(2006.01);H01L21/288(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 H01L31/18(2006.01)
代理机构 郑州联科专利事务所 代理人 田小伍
主权项 1、硅片表面金属电极制作方法,其特征在于,把所要制作电极的硅片固定在印刷台面上,先在硅片表面上根据需要的深度划开硅片表面自然氧化层形成沟槽,再使印刷浆料填埋入沟槽中,最后烧结硅片使印刷浆料与硅表面形成牢固的微合金,从而形成良好的欧姆接触表面电极。
地址 200000上海市虹口区玉田路500号