发明名称 |
氯代硅烷的水解 |
摘要 |
在含有水解反应器、HCl纯化器、洗涤设备和分离器的环路体系中水解氯代硅烷成水解物。该方法的步骤包括:(i)将来自外部来源的氯代硅烷喂入到水解反应器中,(ii)将来自外部来源的水喂入到洗涤设备中,(iii)将来自外部来源的至少10wt%HCl的高浓度含水HCl在洗涤设备和水解反应器之间喂入到水解反应器中,(iv)从HCl纯化器取出无水HCl,(v)从洗涤设备中去除水解物,和(vi)从环路体系中去除0.1到小于10wt%HCl的低浓度含水HCl。 |
申请公布号 |
CN101035838A |
申请公布日期 |
2007.09.12 |
申请号 |
CN200580033669.X |
申请日期 |
2005.08.09 |
申请人 |
陶氏康宁公司 |
发明人 |
A·B·甘米 |
分类号 |
C08G77/06(2006.01);C08G77/08(2006.01) |
主分类号 |
C08G77/06(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
张钦 |
主权项 |
1.在含有水解反应器、HCl纯化器、洗涤设备和分离器的环路体系中水解氯代硅烷以产生水解物的方法,该方法包括下述步骤:(i)将来自外部来源的氯代硅烷喂入到水解反应器中,(ii)将来自外部来源的水喂入到洗涤设备中,(iii)将来自外部来源的至少10wt%HCl的高浓度含水HCl在洗涤设备和水解反应器之间喂入到水解反应器中,(iv)从HCl纯化器去除无水HCl,(v)从洗涤设备中去除水解物,和(vi)从环路体系中去除0.1到小于10wt%HCl的低浓度含水HCl。 |
地址 |
美国密执安 |