发明名称 等离子体处理装置及其隔板
摘要 提供了一种可提高处理区域内的处理气体排气效率,和可以可靠抑制等离子体泄漏的等离子体处理装置。磁控管式平行平板等离子体处理装置(30)具有处理室容器(3);处理室容器(3)包括:在其顶部有多个气体导入孔的上部电极(1);在其下部有顶部带有载置作为被处理体的半导体晶片(W)的载置面的下部电极(2);和在下部电极(2)的顶部位置上,将处理室容器(3)内部隔离成处理区域(8)和排气区域(9)的隔离板(50)。隔离板(50)具有应将处理区域(8)内的处理气体排出至排气区域(9)的、连通处理区域(8)和排气区域(9)的多个气体通路孔(5a);同时由非导电性部(5b)构成。在与气体通路孔(5a)相对的气体通路侧面(20b)上配置导电性部件(5c)。在导电性部件(5c)上,由电源(21)加电压(V),使气体通路侧面(20b)的电位比处理区域面(20a)的电位高。
申请公布号 CN100337313C 申请公布日期 2007.09.12
申请号 CN03807528.8 申请日期 2003.03.28
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 石原博之;荒木阳一;高桥俊树;久保卓也;伊藤淳;小野洋子
分类号 H01L21/3065(2006.01) 主分类号 H01L21/3065(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项 1、一种等离子体处理装置,其特征为,具有:处理室容器;将所述处理室容器内部隔离成供给处理气体且处理被处理体的处理区域和排出存在于所述处理区域内的所述被供给的气体的排气区域的隔离部件;和应将所述供给的处理气体电离而生成由带电粒子和中性气体粒子构成的等离子体,并在所述处理区域内进行放电的放电部件,所述隔离部件由隔离板形成,该隔离板具有所述中性气体粒子通过的开口(5a)、在与所述处理区域(8)相对的处理区域相对面(20a)具有非导电性部(5b)、在与所述处理气体的从所述处理区域(8)至所述排气区域的流动相对的气体流动相对面(20b)具有导电性部(5c),所述隔离部件将在该隔离部件附近的所述中性气体粒子的平均运动方向与所述带电粒子的平均运动方向分离。
地址 日本东京
您可能感兴趣的专利