发明名称 |
膜厚测量装置 |
摘要 |
本发明提供一种膜厚测量装置,通过简单的构成,对长带状或长大形的检查试样容易、且准确地进行膜厚的测量。该膜厚测量装置用于对于在聚酯薄膜(11)上形成导电性薄膜的检查试样测量该导电性薄膜的膜厚。其包括:检查头(10),在辊式检查部(2)中,面对上述聚酯薄膜(11)的表面,在相隔设定的间隙的状态下被保持;以及隔离膜(14),在介于上述聚酯薄膜(11)的导电性薄膜和上述检查头(10)之间的状态下,被设置在辊式检查部(2)的外周上,同时直接或者间接地接触上述导电性薄膜,并将该导电膜和上述检查头(10)之间的间隔保持为设定的间隔。 |
申请公布号 |
CN101033935A |
申请公布日期 |
2007.09.12 |
申请号 |
CN200710079402.5 |
申请日期 |
2007.03.05 |
申请人 |
奈普森株式会社 |
发明人 |
细川理彰 |
分类号 |
G01B7/06(2006.01);G01R27/02(2006.01);H01L21/66(2006.01) |
主分类号 |
G01B7/06(2006.01) |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
余刚;尚志峰 |
主权项 |
1.一种膜厚测量装置,对于在基材上形成导电性薄膜的检查试样,测量该导电性薄膜的膜厚,其特征在于,包括:检查头,相对于所述检查试样的表面,在相隔设定的间隔的状态下保持所述检查头;以及隔离膜,介于所述检查试样的导电性薄膜和所述检查头之间,同时,通过与所述导电性薄膜直接或者间接地接触,而将该导电性薄膜和所述检查头之间的间隔保持为设定的间隔。 |
地址 |
日本东京 |