发明名称 膜厚测量装置
摘要 本发明提供一种膜厚测量装置,通过简单的构成,对长带状或长大形的检查试样容易、且准确地进行膜厚的测量。该膜厚测量装置用于对于在聚酯薄膜(11)上形成导电性薄膜的检查试样测量该导电性薄膜的膜厚。其包括:检查头(10),在辊式检查部(2)中,面对上述聚酯薄膜(11)的表面,在相隔设定的间隙的状态下被保持;以及隔离膜(14),在介于上述聚酯薄膜(11)的导电性薄膜和上述检查头(10)之间的状态下,被设置在辊式检查部(2)的外周上,同时直接或者间接地接触上述导电性薄膜,并将该导电膜和上述检查头(10)之间的间隔保持为设定的间隔。
申请公布号 CN101033935A 申请公布日期 2007.09.12
申请号 CN200710079402.5 申请日期 2007.03.05
申请人 奈普森株式会社 发明人 细川理彰
分类号 G01B7/06(2006.01);G01R27/02(2006.01);H01L21/66(2006.01) 主分类号 G01B7/06(2006.01)
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人 余刚;尚志峰
主权项 1.一种膜厚测量装置,对于在基材上形成导电性薄膜的检查试样,测量该导电性薄膜的膜厚,其特征在于,包括:检查头,相对于所述检查试样的表面,在相隔设定的间隔的状态下保持所述检查头;以及隔离膜,介于所述检查试样的导电性薄膜和所述检查头之间,同时,通过与所述导电性薄膜直接或者间接地接触,而将该导电性薄膜和所述检查头之间的间隔保持为设定的间隔。
地址 日本东京