| 发明名称 | 制备蒸气沉积的氧清除颗粒的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种制备包含活化成分和可氧化的成分的氧清除颗粒的方法，其中一种成分通过气相沉积在另一种成分上，当所述活化成分为可用质子溶剂水解的卤素化合物且所述氧清除颗粒为还原的金属时，所述方法特别有用。 | ||
| 申请公布号 | CN101035923A | 申请公布日期 | 2007.09.12 |
| 申请号 | CN200580034370.6 | 申请日期 | 2005.08.10 |
| 申请人 | M&G聚合物意大利有限公司 | 发明人 | K·罗利克 |
| 分类号 | C23C14/00(2006.01);C23C14/06(2006.01);B65D81/26(2006.01);A23L3/3436(2006.01);C08K3/00(2006.01);C23C16/00(2006.01);C09K15/02(2006.01) | 主分类号 | C23C14/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘冬;段晓玲 |
| 主权项 | 1.一种制造氧清除颗粒的方法，其中所述颗粒包含至少一种可氧化的成分和至少一种活化成分，且所述方法包括可氧化的成分与包含活化成分的蒸气的气体接触，随后由气体在可氧化的成分上沉积液体或固体形式的活化成分。 | ||
| 地址 | 意大利弗罗西诺内 | ||