| 发明名称 | 一种提高真空等离子喷涂碳化硼涂层结合强度的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种提高真空等离子喷涂碳化硼涂层结合强度的方法。其特征在于B<SUB>4</SUB>C涂层与不锈钢或低合金钢基材间采用Ti涂层作中间层；B<SUB>4</SUB>C涂层的厚度为200-500μm；中间层厚度为30-100μm；所使用Ti粉末粒径为10-80μm，B<SUB>4</SUB>C粉末粒径为10-70μm。利用本发明提供的方法，通过工艺参数的控制使制备的涂层的结合强度比未用Ti中间层涂层提高40-60％。 | ||
| 申请公布号 | CN100336939C | 申请公布日期 | 2007.09.12 |
| 申请号 | CN200510023896.6 | 申请日期 | 2005.02.06 |
| 申请人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明人 | 郑学斌;季珩;黄静琪;丁传贤 |
| 分类号 | C23C24/00(2006.01) | 主分类号 | C23C24/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 潘振甦 |
| 主权项 | 1、一种提高真空等离子喷涂B4C涂层结合强度的方法，其特征在于在B4C涂层与不锈钢或低合金钢基材间采用Ti涂层作为中间层；所述的Ti中间层的厚度为30-100微米，B4C涂层的厚度为200-500微米；所述真空等离子喷涂Ti中间层的工艺参数是真空室压力10000-30000帕；喷涂气体氩气流量35-50升/分，喷涂气体氢气流量8-15升/分，喷涂距离200-300毫米，送粉载气氩气流量2-4升/分；所使用的Ti粉末粒径为10-80微米。 | ||
| 地址 | 200050上海市定西路1295号 | ||