发明名称 磁传感器及其制造方法、电子设备
摘要 本发明公开一种磁传感器及其制造方法、电子设备。所述磁传感器具有磁场感应部分并检测两个或更多磁场。所述磁场感应部分具有包括Ni、Fe和Co为主要成分并具有磁致电阻效应的合金金属薄膜;待测磁场中的至少一个是2.5mT或更大。在待测磁场之中,最小磁场与最大磁场间相差0.5mT或更多。所示合金金属薄膜具有1.5×10<SUP>-5</SUP>或更小的磁致伸缩常数(λ)绝对值,80e或更大且160e或更小的各向异性磁场(H<SUB>k</SUB>),以及2.5%或更大的磁致电阻改变率。所述合金金属薄膜在同时满足以下关系的组成范围之内:21x+19y≤1869,5x+28y≥546,y≤11,x+y≥85,其中Ni的组成比按重量由x%代表,Co的组成比按重量由y%代表。
申请公布号 CN101034146A 申请公布日期 2007.09.12
申请号 CN200710086250.1 申请日期 2007.03.09
申请人 日本电气株式会社 发明人 三塚勉
分类号 G01R33/09(2006.01);C22C19/00(2006.01);H01F10/16(2006.01);H01F10/14(2006.01);H01L43/08(2006.01);H04M1/02(2006.01) 主分类号 G01R33/09(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 朱进桂
主权项 1.一种磁传感器,具有磁场感应部分并检测两个或更多磁场,所述磁场感应部分具有合金金属薄膜,所述合金金属薄膜包括Ni、Fe和Co作为主要成分并具有磁致电阻效应,待测磁场中的至少一个是2.5mT或更大,在待测磁场之中,最小磁场与最大磁场之间相差0.5mT或更多,其中,所述合金金属薄膜具有1.5×10-5或更小的磁致伸缩常数(λ)绝对值,8Oe或更大且16Oe或更小的各向异性磁场(Hk),并具有2.5%或更大的磁致电阻改变率。
地址 日本东京都