发明名称 |
磁传感器及其制造方法、电子设备 |
摘要 |
本发明公开一种磁传感器及其制造方法、电子设备。所述磁传感器具有磁场感应部分并检测两个或更多磁场。所述磁场感应部分具有包括Ni、Fe和Co为主要成分并具有磁致电阻效应的合金金属薄膜;待测磁场中的至少一个是2.5mT或更大。在待测磁场之中,最小磁场与最大磁场间相差0.5mT或更多。所示合金金属薄膜具有1.5×10<SUP>-5</SUP>或更小的磁致伸缩常数(λ)绝对值,80e或更大且160e或更小的各向异性磁场(H<SUB>k</SUB>),以及2.5%或更大的磁致电阻改变率。所述合金金属薄膜在同时满足以下关系的组成范围之内:21x+19y≤1869,5x+28y≥546,y≤11,x+y≥85,其中Ni的组成比按重量由x%代表,Co的组成比按重量由y%代表。 |
申请公布号 |
CN101034146A |
申请公布日期 |
2007.09.12 |
申请号 |
CN200710086250.1 |
申请日期 |
2007.03.09 |
申请人 |
日本电气株式会社 |
发明人 |
三塚勉 |
分类号 |
G01R33/09(2006.01);C22C19/00(2006.01);H01F10/16(2006.01);H01F10/14(2006.01);H01L43/08(2006.01);H04M1/02(2006.01) |
主分类号 |
G01R33/09(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
朱进桂 |
主权项 |
1.一种磁传感器,具有磁场感应部分并检测两个或更多磁场,所述磁场感应部分具有合金金属薄膜,所述合金金属薄膜包括Ni、Fe和Co作为主要成分并具有磁致电阻效应,待测磁场中的至少一个是2.5mT或更大,在待测磁场之中,最小磁场与最大磁场之间相差0.5mT或更多,其中,所述合金金属薄膜具有1.5×10-5或更小的磁致伸缩常数(λ)绝对值,8Oe或更大且16Oe或更小的各向异性磁场(Hk),并具有2.5%或更大的磁致电阻改变率。 |
地址 |
日本东京都 |