发明名称 接触式磁头滑块、磁头组件和磁记录设备
摘要 本发明公开了一种接触式磁头滑块、磁头组件和磁记录设备。一种磁头结构形成在其空气承载表面上,所述空气承载表面包括第一、第二和第三表面,第一、第二和第三表面在高度方向上从最靠近磁记录媒体的水平面布置以形成负压力产生区域和正压力产生区域。所述结构包括:具有沿着其纵向的中心部分处形成的第二和第一表面(13a、13b、14a、14b)的第一正压力产生区域;具有相对于第一正压力产生区域形成在进气口边缘(Ei)一侧上的第三表面的第一负压力产生区域(12);以及具有相对于第一正压力产生区域形成在排气口边缘(Eo)一侧上的第三表面的第二负压力产生区域(18)。
申请公布号 CN100337273C 申请公布日期 2007.09.12
申请号 CN200410068684.5 申请日期 2004.09.02
申请人 株式会社东芝 发明人 高桥干
分类号 G11B5/60(2006.01) 主分类号 G11B5/60(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 蒋旭荣
主权项 1.一种磁头结构,其特征在于,包括:磁头(20),所述磁头能够在磁记录媒体相对于磁头(20)转动时实现从磁记录媒体读取和在磁记录媒体上写中至少一种操作;支撑磁头(20)的支撑件(10),以及所述支撑件具有当操作磁头(20)时与磁记录媒体相邻设置的空气承载表面;所述支撑件(10)包括:与进气区域相邻的进口边缘垫(11);与出气区域相邻的接触垫(19);第一垫元件,包括第一部分(14a)和第二部分(14b);和第二垫元件,包括第一部分(13a)和第二部分(13b);所述空气承载表面包括:分别形成在第一和第二垫元件的外表面上的第一和第二表面;以及第三表面;第一、第二和第三表面在高度方向上从最靠近磁记录媒体的水平面到距离磁记录媒体最远的水平面以上升的顺序布置;第一和第二垫元件、和第三表面形成:(A)第一正压力产生区域,包括第一中心垫(15a)和第二中心垫(15b),所述第一中心垫(15a)是通过将所述第一垫元件的所述第一部分(14a)覆盖在所述第二垫元件的所述第一部分(13a)上形成的,并且所述第二中心垫(15b)是通过将所述第一垫元件的所述第二部分(14b)覆盖在所述第二垫元件的所述第二部分(13b)上形成的,所述第一中心垫(15a)和第二中心垫(15b)布置在所述支撑件(10)沿着其纵向的相对侧中心部分处以将第三表面夹在它们之间,通过使第一垫元件至少部分地覆盖在第二垫元件的第二表面上以及使第一垫元件位于支撑件沿着其纵向的中心部分处来形成第一正压力产生区域;(B)第一负压力产生区域(12)是由位于进气口区域和第一正压力产生区域之间的第三表面形成的,且正好位于进口边缘垫(11)的下游;(C)第二负压力产生区域(18)是由位于第一正压力产生区域和排气口区域之间的第三表面形成的,且紧邻中心垫(15a、15b)设置,位于中心垫(15a、15b)的下游;在支撑件(10)位于磁记录媒体附近并且转动磁记录媒体时第一正压力产生区域、第一负压力产生区域(12)和第二负压力产生区域(18)分别形成第一正压力、第一负压力和第二负压力,当磁记录媒体转动时,磁记录媒体利用气体的压力沿空气承载表面从一端进入并从另一端移出,利用这些压力在与磁记录媒体接触的条件下进行读取和写操作。
地址 日本东京都