| 主权项 |
1.一种含矽负型光阻组成物,包括: 一占该组合物重量百分比1%~80%之高分子共聚物; 一占该组合物重量百分比之5%~70%之反应性稀释剂; 以及 一占该组合物重量百分比之0.1%~40%之光起始剂; 其中,该感光性共聚物系由如下式(I)之含矽基团化 合物聚合或共聚而成: R1为C1~C8之烷基或环烷基;且R2为一选自下列化合物 组成之群组:丙烯醯(甲基)丙酯,乙烯基苯基,乙烯 基,(甲基)丙烯醯,烯丙基,甲基二融环乙烯基或甲 基二融环乙烯基二甲基硅烷基。 2.如申请专利范围第1项所述之光阻组成物,其中该 高分子共聚物之侧链系更含有一硷可溶性基团以 及一包含或不包含双键(-C=C)之不饱和感光基团。 3.如申请专利范围第2项所述之光阻组成物,其中该 高分子共聚物侧链之硷可溶性基团,系由至少一种 不饱和羧酸和其他单体经链锁聚合反应而得。 4.如申请专利范围第3项所述之光阻组成物,其中该 高分子共聚物所含不饱和羧酸为选择自丙烯酸、 甲基丙烯酸、巴豆酸、肉桂酸、2-甲基丙烯醯基 氧乙基琥珀酸酯、2-丙烯醯基氧乙基琥珀酸酯、2- 甲基丙烯醯基氧乙基马来酸酯、2-丙烯醯基氧乙 基马来酸酯、2-甲基丙烯醯基氧乙基六氢酸酯 、2-丙烯醯基氧乙基六氢酸酯、2-甲基丙烯醯基 氧乙基酸酯、2-丙烯醯基氧乙基酸酯、顺丁 烯二酸、甲基顺丁烯二酸以及衣康酸所组成的族 群中。 5.如申请专利范围第3项所述之光阻组成物,其中该 高分子共聚物所含单体为系选择自由丙烯酸甲酯 、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙 酯、丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丙酯、丙烯酸异丙 酯、甲基丙烯酸异丙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯 酸丁酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、丙 烯酸三级丁酯、甲基丙烯酸三级丁酯、丙烯酸乙 基己基酯、甲基丙烯酸乙基己基酯、丙烯酸苯甲 酯、甲基丙烯酸苯甲酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯 酸苯酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸环己酯、丙 烯酸苯氧基乙酯、甲基丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯 酸异冰片酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸四氢 糠酯、甲基丙烯酸四氢糠酯、苯乙烯及其衍生物 、-甲基苯乙烯、马来酸酐、醋酸乙烯酯、N-乙 烯基-2-氮五圜酮、乙烯基砒啶、丙酸乙烯酯、丙 烯睛、-甲基丙烯睛所组成的族群。 6.如申请专利范围第2项所述之光阻组成物,其中该 高分子共聚物所含之双键(-C=C)不饱和感光基团,系 由含羧酸之共聚物与含有环氧基和双键(-C=C)不饱 和基团之化合物反应而得。 7.如申请专利范围第6项所述之光阻组成物,其中该 高分子共聚物侧链反应物之含有环氧基和双键(-C= C)不饱和基团之化合物,系选择自由丙烯酸甘油、 甲基丙烯酸甘油、烯丙基甘油乙酯、二烯丙酯异 氰酸单甘油酯、二甲基丙烯醯基异氰酸单甘油酯 、二丙烯醯基异氰酸单甘油酯、一氧丁二烯、(+)- 柠檬烯氧化物、1,4-环氧-1,4-二氢化、1,2-环氧-9- 癸烯、1,2-环氧-5-环辛烯以及1,2-环氧-7-辛烯所组 成的群组。 8.如申请专利范围第1项所述之光阻组成物,其中该 高分子共聚物所含之含矽基团系由至少一种含如 下式(I)之不饱和化合物和其他单体经链锁聚合反 应而得: 其中,R1为C1~C8之烷基及环烷基;R2为丙烯醯(甲基)丙 酯,乙烯基苯基,乙烯基,(甲基)丙烯醯,烯丙基,甲基 二融环乙烯基以及甲基二融环乙烯基二甲基硅烷 基。 9.如申请专利范围第1项所述之光阻组成物,其中该 高分子共聚物之重量平均分子量为1,000~500,000 g/mol 。 10.如申请专利范围第1项所述之光阻组成物,其中 该高分子共聚物之酸价为1~300mg KOH/g。 11.如申请专利范围第1项所述之光阻组成物,其中 该反应性稀释剂系具两个或两个以上不饱和双键 之化合物。 12.如申请专利范围第11项所述之光阻组成物,其中 该反应性稀释剂为选自由1,4-丁二醇二(甲基)丙烯 酸酯、烷氧基化1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6- 己二醇二(甲基)丙烯酸酯、烷氧基化1,6-己二醇二( 甲基)丙烯酸酯、新戊基乙二醇二(甲基)丙烯酸酯 、烷氧基化新戊基乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚 乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯 酸酯、新戊基乙二醇二(甲基)丙烯酸己二酸酯、 新戊基乙二醇二(甲基)丙烯酸羧基特戊酸酯、二( 甲基)丙烯酸二环戊二烯酯、己内酯改质的二(甲 基)丙烯酸二环戊二烯酯、烯丙基化的二(甲基)丙 烯酸环己酯、二(甲基)丙烯酸异氰尿酸酯、三羟 甲基三(甲基)丙烯酸丙酯、烷氧基化三羟甲基三( 甲基)丙烯酸丙酯、二戊赤藓醇三(甲基)丙烯酸酯 、二戊赤藓醇五(甲基)丙烯酸酯、二戊赤藓醇六( 甲基)丙烯酸酯、丙酸改质的二戊赤藓醇三(甲基) 丙烯酸酯、戊赤藓醇三(甲基)丙烯酸酯、戊赤藓 醇四(甲基)丙烯酸酯、氧化丙烯改质的三羟甲基 三(甲基)丙烯酸丙酯、三(丙烯氧乙基)异氰酸尿酯 、丙酸改质的二戊赤藓醇五(甲基)丙烯酸酯、双 酚A二甲基丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二甲基丙烯 酸酯、三甲基丙烯酸甘油酯、烷氧基化三甲基丙 烯酸甘油酯 、二甲基丙烯酸甘油酯、烷氧基化二甲基丙烯酸 甘油酯、三甲基丙烯酸三(2-羟乙基)异氰酸酯、 1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸聚丁二 烯酯、1,3,5,7,9,11,13,15-八乙烯基五环[9.5.1.13,9.15,15. 17,13]八矽氧烷、1,3,5,7,9,11,13,15-八丙烯基甲基丙烯 醯五环[9.5.1.13,9.15,15.17,13]八矽氧烷、环己烷二甲 醇二甲基丙烯酸酯、烷氧基环己烷二甲醇二甲基 丙烯酸酯甲基丙烯酸环氧树酯、甲基丙烯酸烷氧 基环氧树酯、甲基丙烯酸胺基甲酸乙酯、烷氧基 甲基丙烯酸胺基甲酸乙酯、丁甲基丙烯酸二-三甲 基丙烯醯戊酯、2,4,6-三甲基-2,4,6-三乙烯环三矽氧 烷、三丙烯基异三聚氰酸盐或上述之混合物所组 成的族群。 13.如申请专利范围第1项所述之光阻组成物,其中 该光起始剂系经光照射后可产生自由基者。 14.如申请专利范围第1项所述之光阻组成物,其中 该光起始剂为选择自由二苯乙醇酮、二苯乙醇酮 烷基醚、二苯乙二醛、缩酮、苯乙酮化合物、二 苯甲酮、4,4'-二甲基-胺基-二苯甲酮、硫代氧杂恩 酮化合物及吗福林-丙酮化合物所组成的族群。 15.如申请专利范围第1项所述之光阻组成物,其中 更包括一添加剂。 16.如申请专利范围第15项所述之光阻组成物,其中 该添加剂系为选自由界面活性剂、染颜料、可塑 剂、光增感剂、架桥剂、分光增感剂、促进显像 剂、密着赋予剂所组成之族群。 17.如申请专利范围第1项所述之光阻组成物,其系 应用作为油墨、涂料、印刷电路板用蚀刻光阻/电 镀光阻、微机电用电铸光阻、双层光阻剂之上层 光阻者。 |
