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Bei einem Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Bauelements mit einem Bereich zur Bildung einer integrierten Schaltung wird zunächst eine erste Schicht (140) auf einem tiefer gelegten Teil im Substrat (100) erzeugt. Anschließend wird eine Membranschicht (160) auf der ersten Schicht (140) erzeugt und zumindest ein Kanal (170), der die Membranschicht (160) vollständig durchdringt, wird in die Membranschicht (160) eingebracht. Nachfolgend wird ein Bereich der ersten Schicht (140) unterhalb der Membranschicht (160) entfernt, um einen Hohlraum (150) zu bilden. Abschließend wird der Kanal (170) verschlossen und eine planare Oberfläche (200; 220) gebildet.
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