HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK AND BLANKS FOR HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK FOR IT AND PATTERN FORMING METHOD USING THIS,申请号KR20017004808-传众专利搜索

发明名称	HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK AND BLANKS FOR HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK FOR IT AND PATTERN FORMING METHOD USING THIS
摘要
申请公布号	KR100756115(B1)	申请公布日期	2007.09.05
申请号	KR20017004808	申请日期	2001.04.17
申请人		发明人
分类号	H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
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