发明名称 |
电阻值计算方法 |
摘要 |
根据半导体集成电路的掩模布图信息(31),分别对电源配线的电阻值(Rline)、去耦电容的电阻值(Rcap)、及晶体管的电阻值(Rmos)进行计算。根据电源配线的电阻值(Rline)、去耦电容的电阻值(Rcap)及晶体管的电阻值(Rmos),对外部端子间的电阻值(Ri)进行计算。从而能够以比现有技术更高的精度、更短的时间,对半导体集成电路的内部电阻值进行计算。 |
申请公布号 |
CN100336066C |
申请公布日期 |
2007.09.05 |
申请号 |
CN200510007078.7 |
申请日期 |
2005.02.07 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
平野将三;岛崎健二 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01);G01R31/00(2006.01);G01R27/02(2006.01) |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
1.一种电阻值计算方法,是对一种半导体集成电路的内部电阻值进行计算的方法,该半导体集成电路具备:分别与第1及第2外部端子电连接的第1及第2电源配线;和分别连接于所述第1及第2电源配线之间、具有晶体管和去耦电容的多个单元;其特征在于,具备:由所述半导体集成电路的掩模布图信息,对是所述第1及第2电源配线的电阻值的第1电阻值进行计算的第1工序;和由所述掩模布图信息,对是所述多个单元具有的去耦电容的电阻值的第2电阻值进行计算的第2工序;和由所述掩模布图信息,对是所述多个单元具有的晶体管的电阻值的第3电阻值进行计算的第3工序;和由所述第1~第3工序中分别得到的所述第1~第3电阻值,对所述第1及第2外部端子间的电阻值进行计算的第4工序。 |
地址 |
日本大阪府 |