一种两维规整聚合物纳微米孔阵列模板的制备方法

摘要

本发明涉及一种两维规整聚合物纳微米孔阵列模板的制备方法，属于高分子材料技术领域。首先将成核单体与成壳单体相互混合，在混合物中加入乳化剂和水，用酸或碱调pH值，将混合液搅拌并加热，加入引发剂进行聚合反应，得到乳液；用垂直提拉法、旋镀法或溶剂蒸发法制备两维规整乳胶粒阵列模板，将乳胶粒阵列模板放置在溶剂的蒸汽环境中处理，取出干燥即得聚合物纳微米孔阵列模板。本发明的制备方法，利用乳胶粒的自组装性质得到乳胶粒两维规整阵列，并利用乳胶粒中不同组分溶解性的差异来构造孔结构，因此制孔过程简单，易于操作，而且所用的原料来源广泛。

主权项

1、一种两维规整聚合物纳微米孔阵列模板的制备方法，其特征在于该方法包括以下步骤：(1)合成乳胶粒：将成核单体与成壳单体相互混合，两者的质量比为：成核单体∶成壳单体＝1∶0.05～1，在上述混合物中加入乳化剂和水，乳化剂加入量为单体质量的0～5％，加水为单体质量的5～20倍，用酸或碱调pH值至1～12，其中所述的成核单体为苯乙烯，所述的成壳单体为丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺及其衍生物、苯乙烯磺酸钠、甲基丙烯酸-磺酰乙酯钠盐或二甲基乙烯基吡啶甲基磺酸盐中一种或多种以任何比例混合使用；搅拌加热至50℃～70℃左右，加入引发剂进行聚合反应，加入量为单体质量的0.1～5％，聚合温度为80～100℃，反应时间为3～12小时，得到乳液；(2)制备两维规整乳胶粒阵列模板：制备方法为垂直提拉法、旋镀法或溶剂蒸发法中的任何一种；(3)制备两维规整聚合物纳微米孔阵列模板：在0～100℃的温度下，将上述乳胶粒阵列放置在溶剂的蒸汽环境中，所述的溶剂为四氢呋喃、三氯甲烷、二氯甲烷、苯或甲苯中的一种或多种以任何比例混合使用，处理5～200min，取出干燥即得聚合物纳微米孔阵列模板。