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1.一种制作高温超导覆膜导体的离子表面改性方法，所述的方法如下：提供一种清洁的高质量的供制备高温超导器件的材料表面，这种材料是半导体或者金属；采用离子轰击所述材料表面对材料进行表面改性，所述的轰击，是溅射方法，或是离子注入方法，对材料进行表面改性，所述的材料的表面是单晶、非晶或多晶结构；选择适宜的离子源与被轰击材料之间的位置，适宜的角度和距离；选择离子束的入射方向与被溅射的材料表面的法线呈一定的夹角；选择离子源所用的气体，用惰性气体，或用反应气体，或二者的混合气体；选择适宜的离子束的截面图形，或为尼尔逊源产生的圆形，或为弗里曼源产生的长条形；其特征是对高温超导覆膜导体的基底或阻挡层的表面进行改性，其中：所述的溅射是采用等离子体溅射法对LaAlO3薄膜进行离子表面改性，所述的改性方法如下：制取LaAlO3缓冲层膜：在清洁的具有双轴织构的Ni衬底上用非真空工艺的方法沉积出具有双轴织构的LaAlO3缓冲层膜；将制取的LaAlO3缓冲层膜放入具有高真空的反应室中，进行等离子体溅射，其中反应室的本底真空为10-3-10-4Pa，在电极两端加上400-600V的电压，然后冲入氩气并辉光，等离子体的功率在13.65MHz时为75W，辉光的时间为1min；在经过改性的薄膜LaAlO3上生长YBCO薄膜，并且在其上加上钝化层和保护层，获得的高温超导覆膜导体。 |
