发明名称 发光二极管结构
摘要 本发明是关于一种具有建构式氧化薄膜接触层的发光二极管结构。此发光二极管结构是架构于一基板上,包含一形成于此基板上的缓冲层、一形成于此缓冲层上的下束缚层、一形成于此下束缚层上的发光层、一形成于此发光层上的上束缚层、一形成于此上束缚层上的建构式氧化薄膜接触层,其导电性可为P型、N型或I型,以及第一电极与第二电极(透明电极),其中透明电极形成于建构式氧化薄膜接触层上,作为发光二极管的阳极。第一电极则形成于下束缚层上,并与发光层、上束缚层、接触层及透明电极隔离,作为发光二极管的阴极。
申请公布号 CN1333470C 申请公布日期 2007.08.22
申请号 CN200410006387.8 申请日期 2004.02.27
申请人 广镓光电股份有限公司 发明人 黄登凯;李志翔
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人 钟晶
主权项 1.一种发光二极管结构,包括:一基板;一形成于该基板上的第一导电型缓冲层;一形成于该缓冲层上的下束缚层;一形成于该下束缚层上的发光层;一形成于该发光层上的上束缚层;一形成于该上束缚层上的接触层,该接触层的导电性为P型、N型或I型,其是由P+GaN、Y1InN、Y2Inx1Ga1-x1N以及Y3InN四种材料所堆叠而成,其中0≤X1<1,Y1、Y2及Y3为P型或N型掺杂物;一形成于该下束缚层上,且与该发光层、该上束缚层及该接触层隔离的第一电极;以及一形成于该接触层上的第二电极。
地址 台湾省台中市