发明名称 |
半导体激光元件、其安装结构、其制造方法及其安装方法 |
摘要 |
本发明涉及半导体激光元件、半导体激光元件的安装结构、半导体激光元件的制造方法以及半导体激光元件的安装方法。在N型GaAs衬底(2)上,形成N型GaAs缓冲层(4)、N型GaInP中间层(6)、N型AlGaInP包层(8)、非掺杂MQW有源层(10)、P型AlGaInP包层(12)、P型AlGaInP包层(14)、P型GaAs盖层(16)。P型包层(14)以及P型盖层(16)在脊部(15)上形成。窄幅部(17)在N型衬底(2)的上部及所述各层中形成,在脊部(15)的侧面、窄幅部(17)的表面、和N型衬底(2)的台阶部(2a)的表面形成SiO<SUB>2</SUB>膜(18)。在脊部(15)和窄幅部(17)的表面形成的SiO<SUB>2</SUB>膜(18)的上面形成P侧电极层(23)。 |
申请公布号 |
CN101022207A |
申请公布日期 |
2007.08.22 |
申请号 |
CN200710087983.7 |
申请日期 |
2007.01.15 |
申请人 |
夏普株式会社 |
发明人 |
宫嵜启介 |
分类号 |
H01S5/00(2006.01);H01S5/02(2006.01);H01S5/022(2006.01) |
主分类号 |
H01S5/00(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
1.一种半导体激光元件,其特征在于,具有:衬底;在所述衬底上形成的下部包层;在所述下部包层上形成的有源层;在所述有源层上形成的第一上部包层;覆盖所述第一上部包层、有源层以及下部包层的侧面的电介质膜;覆盖所述电介质膜、并且电连接所述第一上部包层的电极层。 |
地址 |
日本大阪府 |