发明名称 |
阳极氧化法制备纳米硅颗粒的方法 |
摘要 |
本发明提供了一种阳极氧化法制备纳米硅颗粒的方法及设备,属于硅纳米材料制备领域。该方法将硅片固定在腐蚀槽底部,硅片的背面与金属底座接触,底座接阳极;配制腐蚀液,将腐蚀液注入到腐蚀槽内,连接阴极的铂金电极或石墨棒电极插入腐蚀液中;接通电源,电流密度控制在10-300mA/cm<SUP>2</SUP>范围,时间为5-30分钟;关闭电源,取出硅片并用纯水轻轻冲洗,便可收集到硅片表面上的纳米硅颗粒。采用本发明可显著增加硅片和腐蚀液的接触面积,使硅片的腐蚀率比现有技术提高近百倍,设备简单、成本低,能够快速、批量生产纳米硅颗粒,该纳米硅是性能很好的半导体光电子材料。 |
申请公布号 |
CN1333108C |
申请公布日期 |
2007.08.22 |
申请号 |
CN03134724.X |
申请日期 |
2003.09.29 |
申请人 |
北京大学 |
发明人 |
冉广照;张伯蕊;乔永平;戴伦;吕莹;陈晓升;秦国刚 |
分类号 |
C25B1/00(2006.01) |
主分类号 |
C25B1/00(2006.01) |
代理机构 |
北京君尚知识产权代理事务所 |
代理人 |
贾晓玲 |
主权项 |
1、一种阳极氧化法制备纳米硅颗粒的方法,包括:将硅片固定在腐蚀槽底部,硅片的背面与金属底座接触,底座接阳极;配制腐蚀液,在腐蚀槽内注入腐蚀液,连接阴极的铂金电极或石墨棒电极插入腐蚀液中;接通电源,电流密度控制在10-300mA/cm2范围,时间为5-30分钟;关闭电源,取出硅片并用纯水轻轻冲洗,收集硅片上的纳米硅颗粒,其特征在于:腐蚀液包括HF和H2O2,其体积比1∶(1-5)。 |
地址 |
100871北京市海淀区颐和园路5号 |