发明名称 阳极氧化法制备纳米硅颗粒的方法
摘要 本发明提供了一种阳极氧化法制备纳米硅颗粒的方法及设备,属于硅纳米材料制备领域。该方法将硅片固定在腐蚀槽底部,硅片的背面与金属底座接触,底座接阳极;配制腐蚀液,将腐蚀液注入到腐蚀槽内,连接阴极的铂金电极或石墨棒电极插入腐蚀液中;接通电源,电流密度控制在10-300mA/cm<SUP>2</SUP>范围,时间为5-30分钟;关闭电源,取出硅片并用纯水轻轻冲洗,便可收集到硅片表面上的纳米硅颗粒。采用本发明可显著增加硅片和腐蚀液的接触面积,使硅片的腐蚀率比现有技术提高近百倍,设备简单、成本低,能够快速、批量生产纳米硅颗粒,该纳米硅是性能很好的半导体光电子材料。
申请公布号 CN1333108C 申请公布日期 2007.08.22
申请号 CN03134724.X 申请日期 2003.09.29
申请人 北京大学 发明人 冉广照;张伯蕊;乔永平;戴伦;吕莹;陈晓升;秦国刚
分类号 C25B1/00(2006.01) 主分类号 C25B1/00(2006.01)
代理机构 北京君尚知识产权代理事务所 代理人 贾晓玲
主权项 1、一种阳极氧化法制备纳米硅颗粒的方法,包括:将硅片固定在腐蚀槽底部,硅片的背面与金属底座接触,底座接阳极;配制腐蚀液,在腐蚀槽内注入腐蚀液,连接阴极的铂金电极或石墨棒电极插入腐蚀液中;接通电源,电流密度控制在10-300mA/cm2范围,时间为5-30分钟;关闭电源,取出硅片并用纯水轻轻冲洗,收集硅片上的纳米硅颗粒,其特征在于:腐蚀液包括HF和H2O2,其体积比1∶(1-5)。
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