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发明名称 Structure of susceptor inside plasma enhanced chemical vapor deposition device
摘要
申请公布号 KR100750968(B1) 申请公布日期 2007.08.22
申请号 KR20050048184 申请日期 2005.06.07
申请人 发明人
分类号 C23C16/50 主分类号 C23C16/50
代理机构 代理人
主权项
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