| 发明名称 | 确定投影系统中微镜的偏转 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种具有光源(2)、尤其是具有激光光源的投影系统，其中从所述光源(2)出发通过偏摆镜(1)产生投影光束(6)。根据本发明，设置至少一个被布置于所述投影光束(6)的边缘区中的光探测器(3)来用于检测所述偏摆镜(1)的位置。 | ||
| 申请公布号 | CN101023387A | 申请公布日期 | 2007.08.22 |
| 申请号 | CN200480042675.7 | 申请日期 | 2004.12.07 |
| 申请人 | 西门子公司 | 发明人 | G·博克;G·施雷普菲尔;M·维尔纳 |
| 分类号 | G02B26/12(2006.01);G02B7/182(2006.01) | 主分类号 | G02B26/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘春元;魏军 |
| 主权项 | 1、具有光源(2)、尤其是具有激光光源的投影系统，其中从所述光源(2)出发通过偏摆镜(1)产生投影光束(6)，其特征在于：至少一个被布置于所述投影光束(6)的边缘区中的光探测器(3)，用于检测所述偏摆镜(1)的位置。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||