| 发明名称 | X射线图像检测器的制造方法和制造装置及X射线图像检测器 | ||
| 摘要 | 一种X射线图像检测器的制造方法，在构成X射线图像检测输入部的输入基板(21)上，形成将X射线变换成光的CsI膜等X射线发光荧光膜(22)。对X射线发光荧光膜(22)的表面部分照射具有波长500nm以下的高能光。利用照射高能光，使X射线发光荧光膜(22)的表面部分局部升华及/或熔融而平整。通过利用激光那样的高能光，从而能有效并均匀地使X射线发光荧光膜的表面部分变得平坦。 | ||
| 申请公布号 | CN1333421C | 申请公布日期 | 2007.08.22 |
| 申请号 | CN02816856.9 | 申请日期 | 2002.08.29 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 山岸城文 |
| 分类号 | H01J9/22(2006.01);H01J29/38(2006.01);H01J31/50(2006.01) | 主分类号 | H01J9/22(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沈昭坤 |
| 主权项 | 1.一种X射线图像检测器的制造方法，其特征在于，包括在构成X射线图像检测器的输入部的输入基板上形成将X射线变换成光的X射线发光荧光膜的工序；及对所述X射线发光荧光膜照射具有500nm以下波长的高能光、并使所述X射线发光荧光膜表面部分升华及/或熔融而平整的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||