发明名称 利用激光扫描共聚焦显微镜制作高密度光栅的方法
摘要 一种高密度光栅的制作方法,属于光学器件的制造、光测力学技术领域。本发明是在成熟商品仪器激光扫描共聚焦显微镜的操作环境中,利用其照明光源所发出的波长在光刻胶感光敏感波长范围内的聚焦激光点,对光栅基底材料表面的光刻胶进行扫描曝光,通过调整激光扫描共聚焦显微镜目镜的放大倍数、扫描线数、扫描次数以及扫描方向,能制作出可变密度、可变深度的单向光栅、正交光栅或应变花光栅;该方法的光栅制作原理清晰,操作简单,不需要人为布置光路,以及精确调整激光束的入射角度等重要参数;无需专业设备投资,制作成本低。
申请公布号 CN1333271C 申请公布日期 2007.08.22
申请号 CN200610011471.8 申请日期 2006.03.10
申请人 清华大学 发明人 谢惠民;潘兵;方岱宁;邢永明;岸本哲;戴福隆
分类号 G02B5/18(2006.01);G02B1/00(2006.01);G03F7/00(2006.01) 主分类号 G02B5/18(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种高密度光栅的制作方法,其特征在于该方法包括如下步骤:1)将光刻胶通过旋涂设备均匀地涂布在基底材料上,然后将基底材料切割成所需要的形状,放置在激光扫描共聚焦显微镜的载物台上;2)选择激光扫描共聚焦显微镜目镜的放大倍数,然后在激光扫描共聚焦显微镜附带的操作软件中选择波长在所述的光刻胶的感光敏感波长范围内的照明光源以及扫描线数;3)在激光扫描共聚焦显微镜的操作环境下,利用该显微镜照明光源的聚焦光点对基底材料表面成像范围内的水平或垂直方向进行线扫描曝光,聚焦激光点的直径由所述的显微镜目镜的放大倍数和照明波长决定,聚焦激光点的成像范围由所述的显微镜目镜的放大倍数决定,在所述的激光扫描共聚焦显微镜中聚焦激光点的成像范围内通过选择不同的扫描线数,得到不同频率的沟槽结构,通过增加重复扫描的次数,得到不同深度的沟槽结构;4).一个方向扫描结束之后,将激光束的扫描方向旋转90°或120°,对基底材料表面的另一方向重复步骤2)进行扫描曝光;5)经显影、定影、镀膜和包装后制成光栅成品,最终制作成高密度光栅。
地址 100084北京市北京100084-82信箱