| 主权项 |
1.一种旋转涂布装置包含一环形或多边形之辅助 构件,其中该辅助构件安装于邻近一欲涂布基材之 一边,当装设该基材,该辅助构件内侧上端和该基 材周缘之一空间距离之范围在0.03至0.8厘米之间, 且该辅助构件和该基材复数上端之复数高度系彼 此相同或有一小于0.1厘米的误差。 2.如申请专利范围第1项所述之旋转涂布装置,其中 该空间距离在0.1到0.6厘米之间。 3.如申请专利范围第1项所述之旋转涂布装置,其中 该旋转涂布装置包含一静止元件和一移动元件,且 该移动元件有一高度调整结构使得该移动元件可 相对于该静止元件向上或向下移动。 4.如申请专利范围第3项所述之旋转涂布装置,其中 该高度调整结构在该移动元件和该静止元件之间 相接处有一螺纹构造,且该环形或多边形辅助构件 之高度可藉由旋转该移动元件而调整。 5.如申请专利范围第3项所述之旋转涂布装置,其中 该高度调整结构有一构造使得该移动元件和该静 止元件藉由一可调高度螺旋接合在一起,且该环形 或多边形辅助构件之高度可藉由旋转该螺旋而调 整。 6.如申请专利范围第3项所述之旋转涂布装置,其中 该高度调整结构有一构造,其中有公和母固定构件 ,包含于该移动元件和该静止元件之间相接处,且 该环形或多边形辅助构件之高度可藉由将该公固 定构件插入或拔出该母固定构件而调整。 7.如申请专利范围第2项到第6项中任一项所述之旋 转涂布装置,其中一固定螺旋更包含于一该静止元 件和该移动元件之间相接处,使得在该高度可调的 条件下,该移动元件和该静止元件之间可有稳定的 相接。 8.一种使用如申请专利范围第1项所述旋转涂布装 置制备之涂布基材,其中在资料记载区除了滑跃现 象区域外之厚度误差在2%内,而在该涂布基材之周 缘滑跃现象区域之厚度误差则在10%之内。 9.如申请专利范围第8项所述之涂布基材,其中该涂 布基材是一光碟,其包含一基材和一覆盖层。 10.如申请专利范围第8项所述之涂布基材,其中该 涂布基材是一半导体晶圆。 11.如申请专利范围第8项所述之涂布基材,其中该 涂布基材是一超音波内视压电陶片(ultrasonic endoscopic piezoelectric ceramic plate)。 图式简单说明: 第一图说明当旋转涂布于一欲涂布基底所造成之 “滑跃现象"于一基底结束部分; 第二图说明一碟盘容置器用于一光碟之传统旋转 涂布装置; 第三图说明一半导体基底之侧剖面; 第四图说明本发明旋转涂布装置之一实施例; 第五图说明本发明旋转涂布装置之另一实施例; 第六图说明本发明旋转涂布装置之再一实施例。 |
