| 主权项 |
1.一种量测透明平面性基板缺陷之装置,其主要特 征在于: 第一空间同调性光源以在不同位置处导引在基板 处光线通过基板主要表面;以及 光学系统,其包含第一感测器可操作来感测不同位 置处由传送通过基板或由基板反射光线之相位扭 曲,在不同位置处光线强度对比相关之相位扭曲, 透镜位于沿着光源与感测器间之光学路径,透镜可 操作来选择性地提升光线强度对比。 2.依据申请专利范围第1项之装置,其中第一感测器 可操作来量测位于感测器或超越感测器处虚像面 处之强度。 3.依据申请专利范围第2项之装置,其中装置能够量 测10nm一维光学路径长度之变化。 4.依据申请专利范围第1项之装置,其中空间同调光 源包含光源以及空间滤波器,其中空间滤波器包含 单模光纤。 5.依据申请专利范围第4项之装置,其中光源之同调 长度小于通过基板之光学路径长度。 6.依据申请专利范围第5项之装置,其中光源包含超 照明之二极体。 7.依据申请专利范围第1项之装置,其中光源以及感 测器平移通过基板表面。 8.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包 含第二光源与第一光源隔离以及第二感测器与第 二感测器分隔。 9.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步包 含: 光纤,其耦合至光源以空间性滤波导引至基板处之 光线; 准直透镜,其位于光纤与片状物之间将透射通过片 状物之光束准直;以及 细缝,其位于对比透镜与感测器之间,其中对比透 镜位于片状物与感测器之间。 10.依据申请专利范围第1项之装置,其中更进一步 包含第二光源与第一光源分隔以第二感测器与第 一感测器分隔。 图式简单说明: 第一图示意性地显示出本发明一项实施例以量测 透明基板中缺陷之装置。 第二图显示出具有绳纹缺陷之玻璃片。 第三图示意性地显示出本发明一项实施例以量测 透明基板中缺陷之装置。 第四图显示出本发明一项实施例光源之输出频谱 的曲线图。 第五图为曲线图,其显示出本发明一项实施例以实 际量测绳纹对比百分比与透镜至细缝距离之关系 。 第六图为在依据本发明一项实施例扫瞄含有绳纹 以及条纹缺陷玻璃片后由系统所得到线条扫瞄数 据之二维投射;以及 第七图为依据本发明一项实施例在透明基板中量 测缺陷装置之透视图。 |
