偏光光线照射装置

摘要

即使变化射入于反射镜之偏光光线之偏光方向，照射于工件之偏光光线之消光比也不会降低。本发明之解决手段，系从灯1之光线射入于偏光元件8，将从偏光元件8射出之偏光光线以第2平面镜6反射经由光罩M照射于工件W之配向膜。在第2平面镜6之表面形成有保护膜11，保护膜11之种类，及膜之光学厚度，系因应偏光光线之射入角与波长，选定从第2平面镜6射出之P偏光成分与S偏光成分之相位偏移量之差Δ为能够变成Δ≦±20°。因此，即使变化射入于第2平面镜6之偏光光线之偏光方向，照射于工件W之偏光光线之消光比也不会降低。又，也可以替代第2平面镜6使用复数平面镜使对于平面镜之偏光光线之射入角变小，或将相位之偏移量之差以2枚平面镜抵消。

主权项

1.一种偏光光线照射装置,其系将偏光光线射入于 反射镜,将该反射镜之反射光照射于光配向膜者, 其特征为: 上述反射镜,由射入上述偏光光线之光轴与偏移光 光线之电场方向所决定之第1平面,与射入上述偏 光光线之光轴与反射镜之反射光之光轴所决定之 第2平面为被配置成并非平行,或,成直交状态; 可任意地变更,设定偏光光线的方向地,以射入的 光芒的中心作为中心轴,设成旋转自如的偏光元件 ,及 藉由因应于偏光光线对于上述反射镜之射入角度, 来选择形成于反射镜表面之电介质膜之膜厚及材 质,使得为了配向上述反射镜之反射光中之光配向 膜所要求之波长之光线的P偏光成分与S偏光成分 之相位偏移量之差成为20以下。 2.一种偏光光线照射装置,其系将偏光光线射入于 反射镜,将该反射镜之反射光照射于光配向膜者, 其特征为: 上述反射镜,由射入上述偏光光线之光轴与偏移光 光线之电场方向所决定之第1平面,与射入上述偏 光光线之光轴与反射镜之反射光之光轴所决定之 第2平面为被配置成并非平行,或,成直交状态; 可任意地变更,设定偏光光线的方向地,以射入的 光芒的中心作为中心轴,设成旋转自如的偏光元件 ,及 藉由作为上述反射镜,组合复数反射镜使用,使得 为了配向照射于上述光配向膜之上述反射镜之反 射光中之光配向膜所要求之波长之光线的P偏光成 分与S偏光成分之相位偏移量之差成为20以下。 3.一种偏光光线照射装置,其系将偏光光线射入于 反射镜,将该反射镜之反射光照射于光配向膜者, 其特征为: 上述反射镜,由射入上述偏光光线之光轴与偏移光 光线之电场方向所决定之第1平面,与射入上述偏 光光线之光轴与反射镜之反射光之光轴所决定之 第2平面为被配置成并非平行,或,成直交状态; 可任意地变更,设定偏光光线的方向地,以射入的 光芒的中心作为中心轴,设成旋转自如的偏光元件 ,及 作为上述反射镜,使用由相同材质所成之第1及第2 反射镜,配置上述第1与第2反射镜,对于第1反射镜 之射入光之光轴与反射光之光轴所决定之平面,由 第2反射镜之射入光之光轴与反射光之光轴所决定 之平面为约略变成垂直,并且,使对于第1反射镜之 射入角度与对于第2反射镜之射入角度约略变成相 等。 图式简单说明: 第1图系表示第1实施例之偏光光线照射装置构成 之图。 第2图系直线偏光光线由纯铝镜所反射时,表示反 射光之P偏光成分与S偏光成分之相位偏移量之差 之图。 第3图系表示在铝镜表面形成氟化镁(MgF2)膜时之相 位偏移量之差(射入角30时)之图。 第4图系表示在铝镜表面形成氟化镁(MgF2)膜时之相 位偏移量之差(射入角45时)之图。 第5图系表示在铝镜表面形成氟化镁(MgF2)膜时之相 位偏移量之差(射入角50时)之图。 第6图系表示在铝镜表面形成二氧化矽(SiO2)膜时之 相位偏移量之差(射入角45时)之图。 第7图系表示本发明之第2实施形态之偏光光线照 射装置构成之图。 第8图系表示变化反射镜之射入角度时之反射光之 P偏光成分与S偏光成分之相位偏移量之差之图 。 第9(a)、(b)图系用来说明使用2片反射镜时与使用1 片反射镜时之反射镜之射入角之图。 第10(a)~(c)图系表示本发明之第3实施例之图。 第11图系表示可变更偏光光线方向之光线照射装 置构成例之图。 第12图系表示从偏光元件射出直线偏光光线对于 镜以射入角45射入,反射状态之图。 第13图系于第12图之平面A,B平行或未直交时之P偏 光成分与S偏移光光线成分之图。 第14图系说明椭圆偏光之图。