| 主权项 |
1.一种微影曝光系统,适用于设置在一半导体制程 环境中,而可对一顶面涂覆有光阻剂之晶圆进行微 影曝光,并包含: 一曝光光源,设置于晶圆上方并可产生射向晶圆之 光线; 一透镜装置,设置于曝光光源与晶圆间,且可使往 下穿透之光线聚焦射向晶圆顶面之预定曝光区域; 及 一光罩装置,设置于曝光光源与透镜装置间,包括 一光罩,及一第一与一第二遮光板,该光罩具有多 数相间隔并可分别使光线往下穿透且相配合构成 一欲微影至晶圆之图样的第一与第二微影区,该等 遮光板是可彼此替换地单独与该光罩纵向排列,且 第一遮光板具有多数相间隔并仅使穿透该等第一 微影区之光线可射向透镜装置的第一曝光区,而第 二遮光板具有多数相间隔并仅使穿透该等第二微 影区之光线可射向透镜装置的第二曝光区。 2.依据申请专利范围第1项所述之微影曝光系统,其 中,该光罩是设置定位于第一或第二遮光板上方, 且曝光光源之光线可往下穿透该等微影区。 3.依据申请专利范围第1项所述之微影曝光系统,其 中,第一与第二遮光板是可替换地单独设置于光罩 上方,而可分别阻止曝光光源之光线往下穿透该等 第二微影区与第一微影区。 4.依据申请专利范围第2或3项所述之微影曝光系统 ,其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及一不透 光地被覆于光罩本体顶面且于光罩本体上围绕界 定出该等第一与第二微影区之第一遮光体,该等遮 光板分别具有一可透光之板本体,及一不透光地被 覆于板本体顶面而分别界定出该等曝光区之第二 遮光体。 5.依据申请专利范围第2或3项所述之微影曝光系统 ,其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及一不透 光地被覆于光罩本体顶面且于光罩本体上围绕界 定出该等第一与第二微影区之第一遮光体,该等遮 光板分别具有一可透光之板本体,及一不透光地被 覆于板本体底面而分别界定出该等曝光区之第二 遮光体。 6.依据申请专利范围第2或3项所述之微影曝光系统 ,其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及一不透 光地被覆于光罩本体底面且于光罩本体上围绕界 定出该等第一与第二微影区之第一遮光体,该等遮 光板分别具有一可透光之板本体,及一不透光地被 覆于板本体顶面而分别界定出该等曝光区之第二 遮光体。 7.依据申请专利范围第2或3项所述之微影曝光系统 ,其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及一不透 光地被覆于光罩本体底面且于光罩本体上围绕界 定出该等第一与第二微影区之第一遮光体,该等遮 光板分别具有一可透光之板本体,及一不透光地被 覆于板本体底面而分别界定出该等曝光区之第二 遮光体。 8.依据申请专利范围第2或3项所述之微影曝光系统 ,其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及多数不 透光地间隔被覆于光罩本体顶面之第一遮光体,且 该等第一遮光体相配合于光罩本体上界定出该等 第一与第二微影区,该等遮光板分别具有一可透光 之板本体,及多数不透光地间隔被覆于板本体顶面 且相配合于板本体上界定出该等曝光区之第二遮 光体。 9.依据申请专利范围第2或3项所述之微影曝光系统 ,其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及多数不 透光地间隔被覆于光罩本体顶面之第一遮光体,且 该等第一遮光体相配合于光罩本体上界定出该等 第一与第二微影区,该等遮光板分别具有一可透光 之板本体,及多数不透光地间隔被覆于板本体底面 且相配合于板本体上界定出该等曝光区之第二遮 光体。 10.依据申请专利范围第2或3项所述之微影曝光系 统,其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及多数 不透光地间隔被覆于光罩本体底面之第一遮光体, 且该等第一遮光体相配合于光罩本体上界定出该 等第一与第二微影区,该等遮光板分别具有一可透 光之板本体,及多数不透光地间隔被覆于板本体顶 面且相配合于板本体上界定出该等曝光区之第二 遮光体。 11.依据申请专利范围第2或3项所述之微影曝光系 统,其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及多数 不透光地间隔被覆于光罩本体底面之第一遮光体, 且该等第一遮光体相配合于光罩本体上界定出该 等第一与第二微影区,该等遮光板分别具有一可透 光之板本体,及多数不透光地间隔被覆于板本体底 面且相配合于板本体上界定出该等曝光区之第二 遮光体。 12.一种光罩装置,可用以控制曝光光源之光线对晶 圆进行曝光之区域,并包含: 一光罩,包括多数相间隔并可分别使曝光光源之光 线往下穿透的第一与第二微影区,且该等微影区相 配合构成一预定微影复制至晶圆之图样;及 一第一与一第二遮光板,可彼此替换地单独与该光 罩纵向排列,且第一遮光板具有多数相间隔并仅使 穿透该等第一微影区之光线可射向晶圆的第一曝 光区,而第二遮光板具有多数相间隔并仅使穿透该 等第二微影区之光线可射向晶圆的第二曝光区。 13.依据申请专利范围第12项所述之光罩装置,其中, 该光罩是设置于第一或第二遮光板上方,且曝光光 源之光线可往下穿透该等微影区。 14.依据申请专利范围第12项所述之光罩装置,其中, 第一与第二遮光板是可替换地单独设置于光罩上 方,而可分别阻止曝光光源之光线往下穿透该等第 二微影区与第一微影区。 15.依据申请专利范围第13或14项所述之光罩装置, 其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及一不透 光地被覆于光罩本体顶面且于光罩本体上围绕界 定出该等第一与第二微影区之第一遮光体,该等遮 光板分别具有一可透光之板本体,及一不透光地被 覆于板本体顶面而分别界定出该等曝光区之第二 遮光体。 16.依据申请专利范围第13或14项所述之光罩装置, 其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及一不透 光地被覆于光罩本体顶面且于光罩本体上围绕界 定出该等第一与第二微影区之第一遮光体,该等遮 光板分别具有一可透光之板本体,及一不透光地被 覆于板本体底面而分别界定出该等曝光区之第二 遮光体。 17.依据申请专利范围第13或14项所述之光罩装置, 其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及一不透 光地被覆于光罩本体底面且于光罩本体上围绕界 定出该等第一与第二微影区之第一遮光体,该等遮 光板分别具有一可透光之板本体,及一不透光地被 覆于板本体顶面而分别界定出该等曝光区之第二 遮光体。 18.依据申请专利范围第13或14项所述之光罩装置, 其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及一不透 光地被覆于光罩本体底面且于光罩本体上围绕界 定出该等第一与第二微影区之第一遮光体,该等遮 光板分别具有一可透光之板本体,及一不透光地被 覆于板本体底面而分别界定出该等曝光区之第二 遮光体。 19.依据申请专利范围第13或14项所述之光罩装置, 其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及多数不 透光地间隔被覆于光罩本体顶面之第一遮光体,且 该等第一遮光体相配合于光罩本体上界定出该等 第一与第二微影区,该等遮光板分别具有一可透光 之板本体,及多数不透光地间隔被覆于板本体顶面 且相配合于板本体上界定出该等曝光区之第二遮 光体。 20.依据申请专利范围第13或14项所述之光罩装置, 其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及多数不 透光地间隔被覆于光罩本体顶面之第一遮光体,且 该等第一遮光体相配合于光罩本体上界定出该等 第一与第二微影区,该等遮光板分别具有一可透光 之板本体,及多数不透光地间隔被覆于板本体底面 且相配合于板本体上界定出该等曝光区之第二遮 光体。 21.依据申请专利范围第13或14项所述之光罩装置, 其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及多数不 透光地间隔被覆于光罩本体底面之第一遮光体,且 该等第一遮光体相配合于光罩本体上界定出该等 第一与第二微影区,该等遮光板分别具有一可透光 之板本体,及多数不透光地间隔被覆于板本体顶面 且相配合于板本体上界定出该等曝光区之第二遮 光体。 22.依据申请专利范围第13或14项所述之光罩装置, 其中,该光罩具有一可透光之光罩本体,及多数不 透光地间隔被覆于光罩本体底面之第一遮光体,且 该等第一遮光体相配合于光罩本体上界定出该等 第一与第二微影区,该等遮光板分别具有一可透光 之板本体,及多数不透光地间隔被覆于板本体底面 且相配合于板本体上界定出该等曝光区之第二遮 光体。 图式简单说明: 图1是本新型微影曝光系统之第一较佳实施例与一 晶圆搭配使用时的立体示意图,说明以一光罩装置 之一第一遮光板进行微影曝光时的情况; 图2是类似图1之视图,说明以光罩装置之一第二遮 光板进行微影曝光时的情况; 图3是该光罩装置之一光罩对应设置于第一遮光板 上方时的侧视示意图; 图4是该光罩装置之光罩对应设置于第二遮光板上 方时的侧视示意图; 图5是以该较佳实施例进行微影曝光的步骤流程图 ; 图6是类似图3之视图,说明光罩与第一遮光板之不 同排列组合方式; 图7是类似图3之视图,说明光罩与第一遮光板之不 同排列组合方式; 图8是类似图3之视图,说明光罩与第一遮光板之不 同排列组合方式; 图9是该光罩装置之光罩对应设置于第一遮光板下 方时的侧视示意图; 图10是类似图9之视图,说明光罩与第一遮光板之不 同排列组合方式; 图11是类似图9之视图,说明光罩与第一遮光板之不 同排列组合方式; 图12是类似图9之视图,说明光罩与第一遮光板之不 同排列组合方式; 图13是本新型微影曝光系统之第二较佳实施例与 一晶圆搭配使用时的立体示意图,说明以一光罩装 置之一第一遮光板进行微影曝光时的情况;及 图14是类似图13之视图,说明以光罩装置之一第二 遮光板进行微影曝光时的情况。 |
