发明名称 具有双功函数金属闸堆叠的CMOS半导体元件CMOS SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING DUAL WORK FUNCTION METAL GATE STACKS
摘要 本发明提供了一种藉由采用制造技术而形成的、具有双功函数金属闸结构的CMOS半导体元件,此CMOS半导体元件为PMOS元件和NMOS元件提供了单独的功函数控制,并有效地减少或者消除了对闸介电质可靠性的影响。
申请公布号 TW200731540 申请公布日期 2007.08.16
申请号 TW096103481 申请日期 2007.01.31
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 丁炯硕;李锺镐;韩成基;金柱然;朴廷
分类号 H01L29/78(2006.01) 主分类号 H01L29/78(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 韩国