发明名称 | 加热装置及采用该加热装置之真空镀膜设备 | ||
摘要 | 本发明涉及一种加热装置及采用该加热装置之真空镀膜设备。该加热装置包括:至少一灯管,其位于工件之一侧;一可旋转之反射罩,该反射罩位于灯管远离工件之一侧,其具有一聚焦反射面,该聚焦反射面朝向该灯管;及一控制该反射罩旋转方向之外置控制器。采用本发明加热装置之真空镀膜设备镀膜均匀性高,且加热待镀工件之速率快。 | ||
申请公布号 | TW200730647 | 申请公布日期 | 2007.08.16 |
申请号 | TW095104537 | 申请日期 | 2006.02.10 |
申请人 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 发明人 | 简士哲 |
分类号 | C23C14/22(2006.01) | 主分类号 | C23C14/22(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 台北县土城市自由街2号 |