发明名称 半导体元件或显示元件用洗净液及洗净方法
摘要 本发明系提供一种半导体元件或显示元件用洗净液、及使用该洗净液之半导体元件或显示元件之洗净方法,该半导体元件或显示元件用洗净液之特征系含有于碳链相邻接之位置具有2个以上胺基之特定构造的聚胺或其盐。本发明之半导体元件或显示元件用洗净液系安全性高、环境面之负荷变小,能够在短时间内容易地除去半导体基板上之蚀刻残渣,且此时能够完全无腐蚀地微细加工配线材料,此外,并不需要使用例如醇类之有机溶剂来作为漂洗液,可以仅利用水来进行漂洗。因此,根据本发明之洗净方法,能在半导体元件或显示元件之制造中,于工业上极为有利地制造环境面之负荷小、高精度及高品质之电路配线。
申请公布号 TW200731371 申请公布日期 2007.08.16
申请号 TW095144405 申请日期 2006.11.30
申请人 三菱瓦斯化学股份有限公司 发明人 岛田宪司;安部幸次郎
分类号 H01L21/30(2006.01) 主分类号 H01L21/30(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本