光电化学蚀刻方法及其装置

摘要

本发明系关于一种光电化学蚀刻方法及实现该方法之装置。首先，提供一基材，且该基材之表面设有一图案化遮罩，接着将该基材浸润于含氧化剂之一蚀刻液中，并施予一间歇性能量，以进行一蚀刻反应。